Smoltek Nanotech Holding

Smoltek Nanotech Holding AB: Smoltek Semi installerar ALD-system för att öka innovationstakten och korta vägen till marknad

Källa: MFN
Positiv

Sammanfattning

Smoltek Semi har installerat ett nytt ALD-system som drastiskt minskar utvecklingstiden för deras kondensatorteknik. Detta möjliggör snabbare innovation och stärker bolagets IP-portfölj.

Analys

Installationen av ett eget ALD-system är ett strategiskt steg för Smoltek Semi. Genom att minska iterationstiden från en månad till en dag kan bolaget snabbare utveckla och optimera sin CNF-MIM™-teknik. Detta ger ökad kontroll över processen, stärker företagets tekniska ledarskap och utökar IP-portföljen inom dielektrisk stackutveckling, vilket är avgörande för deras kondensatorer för AI och HPC.

Insikter

  • • Investeringen i eget ALD-system minskar beroendet av externa leverantörer och ger full kontroll över processutvecklingen.
  • • Snabbare iterationstid är avgörande för att korta vägen till marknad för CNF-MIM™-kondensatorer.
  • • Fokus på IP-generering inom dielektriska stackar stärker bolagets långsiktiga konkurrensposition.

Smoltek Nanotech Holding AB (publ) ("Smoltek" eller "Bolaget") meddelar att

dotterbolaget Smoltek Semi AB har installerat ett plasmaförstärkt ALD-system

(Atomic Layer Deposition) för implementering av bolagets avancerade dielektriska

stack på kolnanofibrer. Det nya ALD-systemet kommer att avsevärt accelerera

utvecklingen och minska iterationstiden - från upp till en månad till endast en

dag. Samtidigt möjliggör investeringen ytterligare innovation samt IP-generering

inom dielektrisk stackteknik för kolnanofiberelektroder.

Smoltek Nanotech Holding AB (publ) ("Smoltek" eller "Bolaget") meddelar att dotterbolaget Smoltek Semi AB har installerat ett plasmaförstärkt ALD-system (Atomic Layer Deposition) för implementering av bolagets avancerade dielektriska stack på kolnanofibrer. Det nya ALD-systemet kommer att avsevärt accelerera utvecklingen och minska iterationstiden - från upp till en månad till endast en dag. Samtidigt möjliggör investeringen ytterligare innovation samt IP-generering inom dielektrisk stackteknik för kolnanofiberelektroder.

Smoltek Semi har anskaffat och driftsatt ett plasmaförstärkt ALD-system (Atomic Layer Deposition) i renrummet på Chalmers MC2-laboratorium, vilket möjliggör högkvalitativ ALD-filmdeponering. Med denna funktion kan Smoltek Semi nu genomföra en fullständig beläggningscykel inom en dag - vilket minskar utvecklingstiden för bolagets CNF-MIM-kondensatorer från upp till en månad till endast en dag. 

- Genom att utföra ALD-processen själva får vi friheten att uppfinna och utveckla egna dielektriska stackar som är skräddarsydda för vår teknologi. Detta är ett viktigt steg mot att bygga upp egna immateriella rättigheter inom dielektriska stackar och stärka Smolteks långsiktiga konkurrensposition, säger Farzan Ghavanini, teknisk chef på Smoltek.

Tidigare utfördes ALD-beläggning av externa underleverantörer, en process som var både kostsam och tidskrävande. Att bolaget nu kan genomföra ALD-beläggning på egen hand ökar iterationshastigheten dramatiskt och kortar vägen till marknad.

Anskaffningen markerar en viktig strategisk milstolpe som ger Smoltek full kontroll över processutveckling och möjliggör att bolaget kan utveckla egna ALD-recept optimerade för kolnanofibrer - en expertis som inte finns tillgänglig externt. Detta stärker företagets tekniska ledarskap och utökar IP-portföljen inom avancerad dielektrisk stackutveckling.

Kort bakgrund CNF-MIM™-teknik: Smolteks CNF-MIM™-teknik möjliggör tillverkning av ultratunna kondensatorer för högpresterande applikationer (AI och HPC). ALD-processen, eller atomlagerdeponering, är avgörande då den skapar det isolerande dielektriska lagret som bestämmer kondensatorns prestanda och kapacitans.

Fakta: ALD och PEALD Atomlagerdeponering (ALD) är en tunnfilmsdeponeringsmetod som möjliggör extremt tunna och enhetliga materialfilmer, där material byggs upp atomlager för atomlager. Plasmaförstärkt ALD (PEALD) använder plasma för att aktivera de så kallade "prekursorerna", vilket möjliggör deponering vid lägre temperaturer utan att kompromissa med filmkvaliteten. Detta öppnar upp för fler materialval och gör det möjligt att belägga fler typer av ytor.

För ytterligare informationMagnus Andersson, vd och koncernchef Smoltek Nanotech Holding ABE-post: magnus.andersson@smoltek.com  Telefon: 031 701 03 05Webbplats: www.smoltek.com/investors   

Öppna PDF